多重曝光

晶片核爆！ASML發表史詩級Hyper NA EUV曝光機，支援台積電0.2nm工藝猛量產。英特爾未掌握某項關鍵技術，才急忙引入High NA極紫外機台。2埃米時代來臨，EXE型號升級HXE。

High NA EUV曝光機剛開始出貨，但是ASML已經在加緊研發新一代的Hyper NA EUV曝光機，為其尋找合適的解決方案。ASML前總裁兼技術長、現任公司顧問Martin van den Brink透露，ASML計劃在2030年左右正式推出Hyper NA EUV曝光機，其數值孔徑 NA 將達到0.75，以便實現更高解析度的圖案化及更小的電晶體特徵。ASML近日暗示，可能將在2024年底前向台積電出貨High NA EUV曝光機。Ronse 表示： High NA 應該會持續貫穿從 2nm 到 1.4nm、10埃米甚至7埃米的工藝節點。 他補充說，此後，Hyper NA 將開始佔據主導地位。 #艾斯摩爾 #台積電 #A2 #英特爾 #HyperNA #EUV曝光機 #多重曝光 #埃米 [ad_2] source